D1X 是英特尔芯片技术研发的重要据点，几乎所有先进制程开发作业都位于此地。该公司在 D1X 工厂扩建计划上斥资 30 亿美元，扩建面积 27 万平方英尺，将使工厂规模增加 20%。

英特尔高级副总裁 Sanjay Natarajan 表示，D1X 实际上是一座巨型实验室，扩建后将更有能力研发多种制造方法，并在全球其他工厂复制这种生产模式。

半导体制程技术的进步，主要由工艺节点来衡量，英特尔近年来遭遇技术瓶颈，代工生产方面表现远落后台积电 (2330-TW)(TSM-US) 和三星电子 (Samsung Eletronics) 等竞争对手，并让后两者的客户如辉达 (NVDA-US) 和 AMD(AMD-US) 得以推出更具竞争力的产品，进而打压英特尔的获利空间并限制成长。

作为 IDM2.0 策略的一部分，英特尔致力于强化晶圆代工领域发展，盼能跟上竞争对手台积电和三星电子的脚步，在 2025 年前推进五个制程节点。

英特尔执行长季辛格 (Pat Gelsinger) 此前承诺，将投资 200 亿美元，在美国俄亥俄州设立两座晶圆厂，并在未来十年内砸下 800 亿欧元，于欧洲打造半导体供应链。